Equipement de dépôt LPCVD
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
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Amounts and figures
Description
Le CEA Grenoble pour ses activités de recherche visant à développer les technologies SOI d'un diamètre de 10 nm et au-delà, le CEA-LETI souhaite acquérir un système LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) compact basé sur un seul tube vertical. Ce système devra traiter automatiquement des plaquettes de 300 mm destiné au dépôt de silicium non dopé et dopé (avec du bore ou du phosphore). Il comprends les options à réponses facultatives suivantes : Option 1 : Process 8 Amorphous silicon doped with carbon @525°C (§2 du CdC) Option 2 : Echangeurs de chaleur / refroidisseurs (§3.2.6 du CdC) Option 3 : Transformateur (§4.1.4 du CdC) Option 4 : Formation Maintenance 1er niveau (§9 du CdC) Option 5 : Formation Maintenance Avancée (§9 du CdC) Option 6 : Extension de garantie 1 an supplémentaire (§11.1 du CdC)
Award criteria
| Type | Criterion | Weight |
|---|---|---|
| Price | Le prix n'est pas le seul critère d'attribution et tous les critères sont énoncés uniquement dans les documents du marché. | — |
Official publications
| Medium | Reference | Date |
|---|---|---|
| TED | 00387253-2025 | 16 June 2025 |
| OJS | 113/2025 | 16 June 2025 |
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