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maskenloses UV-Direktlithographie-System

Auftraggeber: Friedrich-Schiller-Universität Jena

Veröffentlicht
15 Juli 2026
Erfüllungsort
DEG03
Verfahren
Offenes Verfahren
Lose
1
Bekanntmachungsnummer
3cee3fd6df4249cb881cae9ed023900f
Referenz
e09a1bea-a718-4524-ac68-f2bb8f03098c
Offizielle Quelle
Offizielle Quelle

CPV-Codes

Beschreibung

Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2

Zuschlagskriterien

Zuschläge

Zuschlag anBetragDatum
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH 190.785 €

Amtliche Veröffentlichungen

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