Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie
Friedrich-Schiller-Universität Jena
Zuschlag an Notion Systems GmbH für 216.125 €.
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Beträge und Kennzahlen
Beschreibung
Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.
Zuschlagskriterien
| Art | Kriterium | Gewichtung |
|---|---|---|
| Preis | 1 | — |
Zuschläge
| Los | Zuschlag an | Betrag | Eingegangene Angebote | Datum |
|---|---|---|---|---|
| LOT-0001 | Notion Systems GmbH | 216.125 € | 2 | 30 Juni 2026 |
Amtliche Veröffentlichungen
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