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Geschlossen Deutschland Lieferungen

Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften

Geschlossen. Angebotsfrist: 10 Januar 2024.

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Beträge und Kennzahlen

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Lose

Beschreibung

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Teilnahmebedingungen

  • Folgende Eigenerklärung ist mit dem Angebot einzureichen: Eigenerklärungen über mindestens drei vergleichbare Referenzen des Bieters aus den letzten 3…
  • Folgende Eigenerklärung ist mit dem Angebot einzureichen: Eigenerklärung zum Umsatz des Unternehmens in EUR netto jeweils in den letzten 3 abgeschlossenen…
  • Folgende Eigenerklärungen und Dokumente sind mit dem Angebot einzureichen: -Eigenerklärung (gemäß § 123 Abs. 1-3 GWB), dass keine Person, deren Verhalten dem…
  • Zwingende bzw. fakultative Ausschlussgründe nach §§ 123 bis 126 GWB

Amtliche Veröffentlichungen

MediumReferenzDatum
OEV 3b80da98427b463e863451f4709b3a75 1 Dezember 2023
TED 731960-2023 —

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Häufig gestellte Fragen

Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?
Die Angebotsfrist endet am 10 Januar 2024, 12:00. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.
Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
Die Vergabestelle ist Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Deutschland).
Wie kann ich mich an öffentlichen Ausschreibungen in Deutschland beteiligen?
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