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Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Auftraggeber: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften

Veröffentlicht
1 Dezember 2023
Angebotsfrist
10 Januar 2024, 12:00
Erfüllungsort
Garching, DE21H
Verfahren
Offenes Verfahren
Lose
1
Unterlagen
1
Bekanntmachungsnummer
3b80da98427b463e863451f4709b3a75
Referenz
503c00b7-8757-4dc9-b4e1-d88d0c11cd73
Offizielle Quelle
Offizielle Quelle

CPV-Codes

Beschreibung

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

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Häufig gestellte Fragen

Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?
Die Angebotsfrist endet am 10 Januar 2024, 12:00. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.
Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
Die Vergabestelle ist Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften (Deutschland).
Wie kann ich mich an öffentlichen Ausschreibungen in Deutschland beteiligen?
Angebote werden über das offizielle Vergabeportal von Deutschland eingereicht. El Vínculo hilft Ihnen, Ausschreibungen zu finden und ihre Unterlagen zu analysieren; die Angebotsabgabe erfolgt immer bei der offiziellen Quelle.
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