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Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften

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Beträge und Kennzahlen

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Lose

Beschreibung

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Zuschlagskriterien

ArtKriteriumGewichtung
KostenKosten50%
QualitätQualität50%

Zuschläge

LosZuschlag anBetragDatum
LOT-0001 Ohne Zuschlag — —

Amtliche Veröffentlichungen

MediumReferenzDatum
OEV 84f680187cc74f2193c55ee508a13d40 25 Oktober 2026

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