teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken
Geschlossen. Angebotsfrist: 20 März 2026.
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Beträge und Kennzahlen
Beschreibung
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken
Amtliche Veröffentlichungen
| Medium | Referenz | Datum |
|---|---|---|
| OEV | 25072838-1 | 6 März 2026 |
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Häufig gestellte Fragen
- Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?
- Die Angebotsfrist endet am 20 März 2026, 18:00. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.
- Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
- Die Vergabestelle ist Fraunhofer ENAS (Deutschland).
- Wie kann ich mich an öffentlichen Ausschreibungen in Deutschland beteiligen?
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