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ICP-RIE-Plasmaätzanlage für cryogenes Trockenätzen von Silizium, Siliziumdioxid u.ä.

Auftraggeber: Friedrich-Schiller-Universität Jena

Veröffentlicht
3 Dezember 2024
Angebotsfrist
9 Januar 2025, 10:00
Geschätzter Auftragswert
825.000 €
Erfüllungsort
DEG03
Verfahren
Offenes Verfahren
Lose
1
Unterlagen
1
Bekanntmachungsnummer
4efd1b543f2e48489ce9507518391f7a
Referenz
50facca7-c22c-4792-bd51-028f3a5657f8
Offizielle Quelle
Offizielle Quelle

CPV-Codes

Beschreibung

Auftragsgegenstand ist eine ICP-RIE-Plasmaätzanlage für die Strukturierung mikro- und nanooptischer Elemente, konkret proportionales und binäres Plasmaätzen in dielektrische, halbleitende Materialien und Funktionsschichten (Quarzglas /fused silica, Silizium, SiOxNy , Siliziumkarbid, hochbrechende Materialien, wie Ta2O5, Nb2O5, etc.) mittels Fluor-basierter Reaktivgasprozesse auch bei, aber nicht ausschließlich kryogenen Temperaturen um -130°C. Die Anlage mit Beladeschleuse (Loadlock, LL) muss das Prozessieren variabler Substratgrößen mittels Carrier ohne großen Bearbeitungs und Zeitaufwand ermöglichen. Ein schneller, variabler Wechsel der Substratelektrodenkühlung zwischen Kühlung mittels Tiefkältethermostat und Flüssig-Stickstoff ist anzustreben. Zumindest muss aber die Möglichkeit einer nachträglichen Umrüstung auf Flüssigstickstoffkühlung ohne bauliche Änderung an der Substratelektrode gegeben sein. Weiteres siehe Anlage 2.

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Häufig gestellte Fragen

Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?
Die Angebotsfrist endet am 9 Januar 2025, 10:00. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.
Wie hoch ist der geschätzte Auftragswert dieser Ausschreibung?
Der vom Auftraggeber veröffentlichte geschätzte Auftragswert beträgt 825.000 €.
Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
Die Vergabestelle ist Friedrich-Schiller-Universität Jena (Deutschland).
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