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Beschaffung eines dedizierten Elektronenstrahllithografie-Systems

Auftraggeber: Ludwig-Maximilians-Universität München

Veröffentlicht
7 Mai 2024
Erfüllungsort
DE212
Verfahren
Offenes Verfahren
Lose
1
Bekanntmachungsnummer
4e8506893c4945c39ae046fd12fffdbb
Referenz
4f937bea-14ac-4de1-be11-c568b5882810
Offizielle Quelle
Offizielle Quelle

CPV-Codes

Beschreibung

Das hier beschriebene Vergabeverfahren betrifft die Beschaffung eines dedizierten Elektro-nenstrahllithographiesystems zur nanoskaligen Strukturierung dünner Polymerfilme mittels elektrostatischer Rasterung eines fokussierten, hochenergetischen Elektronenstrahls für die Erforschung zweidimensionaler Materialien in quantenphysikalischen Experimenten.

Zuschlagskriterien

Zuschläge

Zuschlag anBetragDatum
RAITH GmbH 1.340.000 €

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Häufig gestellte Fragen

Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
Die Vergabestelle ist Ludwig-Maximilians-Universität München (Deutschland).
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