Beschaffung eines dedizierten Elektronenstrahllithografie-Systems

Veröffentlicht

23 März 2024

Angebotsfrist

25 April 2024, 09:00

Geschätzter Auftragswert

1.300.000 €

Erfüllungsort

DE212

Verfahren

Offenes Verfahren

Lose

1

Unterlagen

1

Bekanntmachungsnummer

4f937bea14ac4de1be11c568b5882810

Referenz

4f937bea-14ac-4de1-be11-c568b5882810

Offizielle Quelle

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CPV-Codes

• 38400000Instrumentos de medida o control de características físicas

Beschreibung

Das hier beschriebene Vergabeverfahren betrifft die Beschaffung eines dedizierten Elektro-nenstrahllithographiesystems zur nanoskaligen Strukturierung dünner Polymerfilme mittels elektrostatischer Rasterung eines fokussierten, hochenergetischen Elektronenstrahls für die Erforschung zweidimensionaler Materialien in quantenphysikalischen Experimenten.

Zuschlagskriterien

• Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium; alle Kriterien sind in den Vergabeunterlagen aufgeführt

Amtliche Veröffentlichungen

• OEV · 4f937bea14ac4de1be11c568b5882810 · 23 März 2024

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Häufig gestellte Fragen

Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?

Die Angebotsfrist endet am 25 April 2024, 09:00. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.

Wie hoch ist der geschätzte Auftragswert dieser Ausschreibung?

Der vom Auftraggeber veröffentlichte geschätzte Auftragswert beträgt 1.300.000 €.

Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?

Die Vergabestelle ist Ludwig-Maximilians-Universität München (Deutschland).

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