PUCES TECHNOLOGIES SEMICONDUCTEURS
- Pays
- France
- Référence
- 394917520
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Activité de PUCES TECHNOLOGIES SEMICONDUCTEURS dans les marchés publics
5
Marchés remportés
1 341 632 €
Total attribué
5
Attributions (lots inclus)
210 000 €
Montant médian
Par secteur (CPV)
- Services de maintenance…40.0%
- Matériel de gravure sèche20.0%
- Machines et appareils d'essai…20.0%
- Instruments divers d'évaluation…20.0%
Code CPV
| Code CPV | Attributions |
|---|---|
| Services de maintenance préventive 50324200 | 2 |
| Matériel de gravure sèche 22520000 | 1 |
| Machines et appareils d'essai et de mesure 38540000 | 1 |
| Instruments divers d'évaluation ou de test 38900000 | 1 |
Activité par année
Attributions récentes
Ouvrir dans El Vínculo →- Prestations de maintenance pour équipement de dépôt de couches atomiques, de marque Oxford Instrument, au profit de l'Institut polytechnique de Grenoble, pour le CIME Nanotech.INSTITUT POLYTECHNIQUE DE GRENOBLE177 832 €12 décembre 2025
- L’objet de ce marché concerne l’acquisition, la livraison et la mise en service de deux dispositifs de gravure ionique réactive par plasma du type RIE-CCP utilisant des gaz fluorés ou dioxygène. L’un des deux réacteurs sera dédié à la gravure exclusive des matériaux SixNy, SiO2 et Si avec un masque de résine (appelé RIE_1), le deuxième sera ouvert à la gravure de mêmes matériaux et aussi de tous les matériaux pouvant être gravés par un plasma obtenu à partir de gaz fluorés ou dioxygène (appelé RIE_2).CNRS-Délégation Centre-Est593 000 €24 avril 2025
- Prestation de maintenance pour équipement de dépôt de couches atomiques, de marque Oxford Instrument au profit de l'Institut polytechnique de Grenoble, pour le CIME Nanotech.INSTITUT POLYTECHNIQUE DE GRENOBLE31 800 €12 décembre 2024
- La présente consultation concerne la fabrication, la livraison et l'installation d'un bâti de gravure ionique réactive fluorée avec source de plasma (ICP-RIE) pour le laboratoire de physique des solides (LPS).CNRS-Délégation Centre-Est329 000 €14 octobre 2019
- Achat dun équipement de PECVD (plasma Enhanced Chemical Vapor Déposition), pour le dépôt chimique en phase vapeur, assisté par plasma, sur des plaquettes de silicium de diamètre allant jusquà 200 millimètresUNIVERSITE D'ORLEANS210 000 €20 août 2018
Pouvoirs adjudicateurs qui attribuent des marchés à PUCES TECHNOLOGIES SEMICONDUCTEURS
Par tranche de montant
Mots-clés
ouvertmateriauxgravureequipementdedieioniqueinstrumentseraacquisitionsixnymasquecouchesmaintenancetyperie_1grenobledispositifsfluoresdioxygenedepotdeuxiemeplasmaobjetreacteursprofitmarqueutilisantconcerneexclusiveoxfordcimeappeleresinereactiveinstitutnanotechatomiquespolytechniquedeuxsio2
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