INX Dans le cadre de ces nombreux projets de recherche, l’IEMN travaille depuis 30 ans sur l’élaboration des composants micro/nano-électroniques à base du Silicium : MEMS, NEMS, MOEMS. La fabrication de ces types de composants implique l'utilisation de la technique de gravure profonde par plasma fluoré, comme par exemple, le procédé Bosch, utilisant les gaz SF6 et C4F8.\n\nL’objectif de cette acquisition est de permettre de suivre en temps réel la composition chimique des gaz extraits après un procédé de gravure, afin de :\n• Suivre l’évolution des espèces chimiques résiduelles\n• Qualifié et quantifié les espèces rejetées dans l’atmosphère\n• Optimiser les paramètres de gravure (vis-à-vis le rendement des gaz utilisés)\n• Détecter d’éventuels dysfonctionnements (polluants, fuites, dérives)\n

Publication

8 février 2026

Valeur estimée

68 000 €

Procédure

Procédure négociée

Numéro d'avis

2022-180089013-2026F00027

Source officielle

Source officielle

Codes CPV

• 38432100-3

Attributions

Publications officielles

• BOAMP · 2022-180089013-2026F00027 · 8 février 2026

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Questions fréquentes

Quelle est la valeur estimée de ce marché ?

La valeur estimée publiée par l'acheteur est de 68 000 €.

Qui est l'acheteur de ce marché ?

Le pouvoir adjudicateur est CNRS-Délégation Centre-Est (France).

Comment soumissionner aux marchés publics (France) ?

Les offres se déposent sur le portail officiel de la commande publique du pays (France). El Vínculo vous aide à trouver les marchés et à analyser leurs documents ; le dépôt s'effectue toujours auprès de la source officielle.