Upgrade of a 200 mm WxZ Tungsten CVD Chamber to WxZ Sprint Configuration
IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik
Geschlossen.
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Beträge und Kennzahlen
Beschreibung
Gegenstand der Beschaffung ist das Upgrade eines bestehenden 200 mm Wolfram Chemical Vapor Deposition (CVD)-Systems des Herstellers Applied Materials Inc. (AMAT) auf eine WxZ Sprint Konfiguration. Hierzu sind insbesondere Anpassungen am Gasverteilungssystem zur Realisierung eines gepulsten Wolfram-Abscheidungsprozesses sowie die Integration zusätzlicher Hardware zur Ermöglichung von Depositionsdrücken bis 300 Torr erforderlich. Die Leistungen umfassen die Planung, Lieferung, Integration, Inbetriebnahme und Qualifizierung der erforderlichen Hard- und Softwareanpassungen am bestehenden Anlagensystem.
Teilnahmebedingungen
- Beschreibung des vorgesehenen Projektteams (optional in dieser Phase) (Mit dem Teilnahmeantrag; Mittels Eigenerklärung)
- Eigenerklärung zur Eignung und Leistungsfähigkeit (Mit dem Teilnahmeantrag; Mittels Eigenerklärung)
- Referenzen (Mit dem Teilnahmeantrag; Mittels Eigenerklärung): Mindestens 2-3 relevante Referenzprojekte im Bereich CVD-System-Upgrades oder…
- Unternehmensprofil (technische Schwerpunkte, Kernkompetenzen) (Mit dem Teilnahmeantrag; Mittels Eigenerklärung)
- Beschreibung der relevanten technischen Expertise (Mit dem Teilnahmeantrag; Mittels Eigenerklärung)
- Der öffentliche Auftraggeber kann den Bewerber oder Bieter unter Einhaltung der Grundsätze der Transparenz und der Gleichbehandlung auffordern, fehlende,…
Amtliche Veröffentlichungen
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