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Upgrade of a 200 mm WxZ Tungsten CVD Chamber to WxZ Sprint Configuration

Auftraggeber: IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik

Veröffentlicht
5 Juni 2026
Erfüllungsort
Frankfurt (Oder), DE403
Verfahren
Verhandlungsverfahren
Lose
1
Unterlagen
1
Bekanntmachungsnummer
093c22ad1db14e819aae3b13fac0624c
Referenz
b76898b3-544e-4d24-9d52-90cc3c4bdc21
Offizielle Quelle
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CPV-Codes

Beschreibung

Gegenstand der Beschaffung ist das Upgrade eines bestehenden 200 mm Wolfram Chemical Vapor Deposition (CVD)-Systems des Herstellers Applied Materials Inc. (AMAT) auf eine WxZ Sprint Konfiguration. Hierzu sind insbesondere Anpassungen am Gasverteilungssystem zur Realisierung eines gepulsten Wolfram-Abscheidungsprozesses sowie die Integration zusätzlicher Hardware zur Ermöglichung von Depositionsdrücken bis 300 Torr erforderlich. Die Leistungen umfassen die Planung, Lieferung, Integration, Inbetriebnahme und Qualifizierung der erforderlichen Hard- und Softwareanpassungen am bestehenden Anlagensystem.

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Häufig gestellte Fragen

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Die Vergabestelle ist IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik (Deutschland).
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