System zur Herstellung von thermischen CVD Nitrid-Schichten mittels NH3 und DCS und zur Herstellung von Oxid-Schichten mittels O2 und TEOS
Auftraggeber: IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik
- Veröffentlicht
- 11 Januar 2024
- Angebotsfrist
- 9 Februar 2024, 12:00
- Erfüllungsort
- Frankfurt (Oder), DE403
- Verfahren
- Offenes Verfahren
- Lose
- 1
- Unterlagen
- 1
- Bekanntmachungsnummer
- 00ccfc506a9243faae444303d9e286e1
- Referenz
- ef0a20c5-4ca5-4ceb-8026-cf88944a66f7
- Offizielle Quelle
- Offizielle Quelle
CPV-Codes
- 38000000Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)
Beschreibung
System zur Herstellung von thermischen CVD Nitrid-Schichten mittels NH3 und DCS und zur Herstellung von Oxid-Schichten mittels O2 und TEOS
Amtliche Veröffentlichungen
- OEV · 00ccfc506a9243faae444303d9e286e1 · 11 Januar 2024
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Häufig gestellte Fragen
- Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?
- Die Angebotsfrist endet am 9 Februar 2024, 12:00. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.
- Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
- Die Vergabestelle ist IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik (Deutschland).
- Wie kann ich mich an öffentlichen Ausschreibungen in Deutschland beteiligen?
- Angebote werden über das offizielle Vergabeportal von Deutschland eingereicht. El Vínculo hilft Ihnen, Ausschreibungen zu finden und ihre Unterlagen zu analysieren; die Angebotsabgabe erfolgt immer bei der offiziellen Quelle.
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