PVD System
Technische Universität Hamburg
Vergeben.
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Beträge und Kennzahlen
Beschreibung
Beschaffung eines PVD Systems, geeignet für die Abscheidung metallischer und nichtmetallischer Schichten mittels Kathodenzerstäubung nach dem DC und RF Prinzip mit Magnetron auf unterschiedlichen Substraten (Silizium, Glas, Keramik und Polymeren) in Größen von Chips 10x10 mm² bis 100 mm Wafern. PVD System
Amtliche Veröffentlichungen
| Medium | Referenz | Datum |
|---|---|---|
| OEV | 22339734-1 | 5 Juli 2024 |
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