Lithographiesystem

Veröffentlicht

14 Dezember 2023

Angebotsfrist

18 Januar 2024, 23:59

Erfüllungsort

Leipzig, DED51

Verfahren

Offenes Verfahren

Lose

1

Unterlagen

1

Bekanntmachungsnummer

ce39437b91234f4bad65ecb1e64fd61c

Referenz

27139943-d835-44c1-bb6a-eefead09c319

Offizielle Quelle

Offizielle Quelle

CPV-Codes

• 38000000Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)

Beschreibung

Der Leistungsgegenstand dieses Verfahrens ist ein Lithographiesystems zur direkten Erzeugung von Strukturen in Lacken, die auf Festkörperoberflächen aufgebracht sind, mit lateralen Abmessungen von 30 nm oder kleiner.

Zuschlagskriterien

• Qualität

Amtliche Veröffentlichungen

• OEV · ce39437b91234f4bad65ecb1e64fd61c · 14 Dezember 2023

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Häufig gestellte Fragen

Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?

Die Angebotsfrist endet am 18 Januar 2024, 23:59. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.

Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?

Die Vergabestelle ist Universität Leipzig (Deutschland).

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