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Ionenstrahlätzanlage

Auftraggeber: Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.

Veröffentlicht
2 Oktober 2025
Geschätzter Auftragswert
1.189.000 €
Erfüllungsort
Jena, DEG03
Verfahren
Offenes Verfahren
Lose
1
Bekanntmachungsnummer
4a54e946f7d640bc84d8ac6be6379202
Referenz
03480a7b-9308-498d-bd16-20c03a6cf69f
Offizielle Quelle
Offizielle Quelle

CPV-Codes

Beschreibung

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtstrukturierung und -abscheidung eine Ionenstrahlätz- und Beschichtungsanlage aus, welche zum Ätzen und Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat bis zum 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Ätzprozesse verschiedener metallischer, halbleitender und isolierender Schichten sowie das Abscheiden metallischer und isolierender Schichten ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen). Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.

Zuschlagskriterien

Zuschläge

Zuschlag anBetragDatum
Scia Systems GmbH 1.191.183 €

Amtliche Veröffentlichungen

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Häufig gestellte Fragen

Wie hoch ist der geschätzte Auftragswert dieser Ausschreibung?
Der vom Auftraggeber veröffentlichte geschätzte Auftragswert beträgt 1.189.000 €.
Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
Die Vergabestelle ist Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. (Deutschland).
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