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ALD-Anlage

Auftraggeber: Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.

Veröffentlicht
22 September 2026
Geschätzter Auftragswert
461.344 €
Erfüllungsort
Jena, DEG03
Verfahren
Offenes Verfahren
Lose
1
Bekanntmachungsnummer
9024fc158a5d4cf3aac21ad94598a71d
Referenz
57f11d62-9298-47b4-ba2c-1f6ddc1f276c
Offizielle Quelle
Offizielle Quelle

CPV-Codes

Beschreibung

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.

Zuschlagskriterien

Zuschläge

Zuschlag anBetragDatum
SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH 456.249 €

Amtliche Veröffentlichungen

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Häufig gestellte Fragen

Wie hoch ist der geschätzte Auftragswert dieser Ausschreibung?
Der vom Auftraggeber veröffentlichte geschätzte Auftragswert beträgt 461.344 €.
Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
Die Vergabestelle ist Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. (Deutschland).
Wie kann ich mich an öffentlichen Ausschreibungen in Deutschland beteiligen?
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