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Supply of a ion Source for Sputter Depth Profiling in UHV.

Stazione appaltante: UFFICIO GARE

Pubblicato
25 febbraio 2025
Valore stimato
67.600 €
Procedura
Affidamento diretto
Lotti
1
Documenti
1
Numero dell'avviso
423bc3487ae9491490f8db99a31c0342
Riferimento
01534285-ea79-47fd-97ba-cc9e5f5b154f
Fonte ufficiale
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Descrizione

Supply of a ion Source for Sputter Depth Profiling in UHV.

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Domande frequenti

Qual è il valore stimato di questa gara?
Il valore stimato pubblicato dalla stazione appaltante è 67.600 €.
Chi è la stazione appaltante di questa gara?
La stazione appaltante è UFFICIO GARE (Italia).
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