Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching)

Published

10 June 2026

Estimated value

2,440,746 RON

Place of performance

RO322

Procedure

open

Lots

1

Notice number

00397891-2026

Reference

0b70d7bc-5605-41d9-a954-55e2ceea7f5e

Official source

Official source

CPV codes

• 22520000Equipo de grabado en seco

Description

Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂).

Frequently asked questions

What is the estimated value of this tender?

The estimated value published by the buyer is 2,440,746 RON.

Who is the buyer of this tender?

The contracting authority is INSTITUTUL NATIONAL DE CERCETARE-DEZVOLTARE PENTRU FIZICA MATERIALELOR (European Union).