RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04) - PR1161740-3340-P
Zuschlag an SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH.
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Beträge und Kennzahlen
1
Lose
1
Eingegangene Angebote
Beschreibung
RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04)
Zuschlagskriterien
| Art | Kriterium | Gewichtung |
|---|---|---|
| Qualität | Technische Ausführung | — |
| Qualität | Nachhaltigkeit | — |
| Preis | Preis | — |
Zuschläge
| Los | Zuschlag an | Betrag | Eingegangene Angebote | Datum |
|---|---|---|---|---|
| LOT-0000 | SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH | — | 1 | 3 August 2026 |
Amtliche Veröffentlichungen
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