Plasmaanlagen
Zuschlag an Diener electronic GmbH & Co KG.
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Beträge und Kennzahlen
Beschreibung
Plasmaanlagen für das reaktive Ionenätzen (reactive ion etching, RIE) und Plasmareinigung zur Prozessierung von bis zu 6 Zoll großen Substraten
Zuschlagskriterien
| Art | Kriterium | Gewichtung |
|---|---|---|
| Qualität | Qualitative Kriterien B1.1 bis B2.3 | — |
| Preis | Bestimmung der Bepunktung für den Preis inklusive Umsatzsteuer erfolgt nach: Der Bieter mit dem niedrigsten Gesamtpreis (vgl. Preisblatt "Summe brutto") erhält die vollen Punkte und ein Angebot ab… | — |
Zuschläge
| Los | Zuschlag an | Betrag | Eingegangene Angebote | Datum |
|---|---|---|---|---|
| LOT-0001 | Diener electronic GmbH & Co KG | 1 € | 1 | 6 Februar 2025 |
Amtliche Veröffentlichungen
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