Plasmaanlagen
Geschlossen. Angebotsfrist: 15 Januar 2025.
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Beträge und Kennzahlen
Beschreibung
Plasmaanlagen für das reaktive Ionenätzen (reactive ion etching, RIE) und Plasmareinigung zur Prozessierung von bis zu 6 Zoll großen Substraten
Zuschlagskriterien
| Art | Kriterium | Gewichtung |
|---|---|---|
| Qualität | Qualitative Kriterien B1.1 bis B2.3 | — |
| Preis | Bestimmung der Bepunktung für den Preis inklusive Umsatzsteuer erfolgt nach: Der Bieter mit dem niedrigsten Gesamtpreis (vgl. Preisblatt "Summe brutto") erhält die vollen Punkte und ein Angebot ab… | — |
Teilnahmebedingungen
- Soweit lediglich Eigenerklärungen gefordert werden, behält sich der Auftraggeber das Recht vor, zur Behebung von Zweifeln entsprechende Bescheinigungen oder…
- Geforderte Erklärungen/ Nachweise sind: Eigenerklärung, dass der Bewerber eine Betriebshaftpflichtversicherung mit einer Mindestdeckungssumme in Höhe von…
- Geforderte Erklärungen/ Nachweise sind: - Referenzen, mindestens zwei in vergleichbarem Umfang - Angabe der technischen Fachkräfte oder der technischen…
- Die Nachforderungsmöglichkeit von Unterlagen richtet sich nach den Regelungen des § 56 VgV.
Ausführungsbedingungen
- Es gelten die in den Vergabeunterlagen beigefügten Vertragsbedingungen des Landes NRW. Die AGBs des Auftragnehmers sind ausgeschlossen. Der Auftragnehmer…
Amtliche Veröffentlichungen
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Häufig gestellte Fragen
- Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?
- Die Angebotsfrist endet am 15 Januar 2025, 11:00. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.
- Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
- Die Vergabestelle ist Universität Siegen (Deutschland).
- Wie kann ich mich an öffentlichen Ausschreibungen in Deutschland beteiligen?
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