ICPCVD-Beschichtungsanlage
Geschlossen. Angebotsfrist: 16 Januar 2025.
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Beträge und Kennzahlen
Beschreibung
Ausgeschrieben wird eine Anlage zur chemischen Gasphasenabscheidung mittels induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-CVD). Die Anlage soll ein Kernstück der waferprozessierenden Infrastruktur darstellen und wird im Reinraum der Universität Paderborn aufgestellt. Die Entwicklung von waferskaligen Bauelementen stellt große Anforderungen an die Wafergröße (bis zu 8 Zoll), die Strukturgröße und die Strukturhomogenitäten. Die bei niedrigen Abscheidungsdrücken und -temperaturen (?20°C) mittels der Anlage abgeschiedenen Schichten sollen von hoher Qualität mit geringen Schäden und einer hohen nasschemischen Ätzbeständigkeit sein und eine hohe Konformität bzw. Stufenabdeckung aufweisen. Bei den abzuscheidenden Schichten soll es sich unter anderem um SiO2, Si3N4, SiOxNy, a-Si:H und SiC handeln.
Teilnahmebedingungen
- 1. Eigenerklärung über das Bestehen einer branchenüblichen Betriebshaftpflichtversicherung unter Nennung des Versicherungsgebers sowie der Deckungssummen für…
- Hinweise: Soweit lediglich Eigenerklärungen gefordert werden, behält sich der Auftraggeber das Recht vor, zur Behebung von Zweifeln entsprechende…
- vgl. § 123 Abs. 1 bis 4 GWB, § 124 GWB
Ausführungsbedingungen
- Öffentliche Auftraggeber sind gem. § 6 Abs. 1. Wettbewerbsregistergesetz (WRegG) verpflichtet, vor Erteilung des Zuschlags für einen öffentlichen Auftrag beim…
Amtliche Veröffentlichungen
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Häufig gestellte Fragen
- Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?
- Die Angebotsfrist endet am 16 Januar 2025, 12:00. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.
- Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
- Die Vergabestelle ist Universität Paderborn (Deutschland).
- Wie kann ich mich an öffentlichen Ausschreibungen in Deutschland beteiligen?
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