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ICPCVD-Beschichtungsanlage

Auftraggeber: Universität Paderborn

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Veröffentlicht
17 Dezember 2024
Angebotsfrist
16 Januar 2025, 12:00
Erfüllungsort
33098, DEA47
Verfahren
Offenes Verfahren
Lose
1
Unterlagen
1
Bekanntmachungsnummer
bcaabe78c33b426f9221ea90e4fa8fc8
Referenz
4ad15678-a2b1-47b1-ad71-3f8ba1717fc7
Offizielle Quelle
Offizielle Quelle

CPV-Codes

Beschreibung

Ausgeschrieben wird eine Anlage zur chemischen Gasphasenabscheidung mittels induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-CVD). Die Anlage soll ein Kernstück der waferprozessierenden Infrastruktur darstellen und wird im Reinraum der Universität Paderborn aufgestellt. Die Entwicklung von waferskaligen Bauelementen stellt große Anforderungen an die Wafergröße (bis zu 8 Zoll), die Strukturgröße und die Strukturhomogenitäten. Die bei niedrigen Abscheidungsdrücken und -temperaturen (?20°C) mittels der Anlage abgeschiedenen Schichten sollen von hoher Qualität mit geringen Schäden und einer hohen nasschemischen Ätzbeständigkeit sein und eine hohe Konformität bzw. Stufenabdeckung aufweisen. Bei den abzuscheidenden Schichten soll es sich unter anderem um SiO2, Si3N4, SiOxNy, a-Si:H und SiC handeln.

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Häufig gestellte Fragen

Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?
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Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
Die Vergabestelle ist Universität Paderborn (Deutschland).
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