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ICP-Ätzanlage

Auftraggeber: Universität Paderborn

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Veröffentlicht
17 Dezember 2024
Angebotsfrist
16 Januar 2025, 12:00
Erfüllungsort
33098, DEA47
Verfahren
Offenes Verfahren
Lose
1
Unterlagen
1
Bekanntmachungsnummer
8af4457623e046028c53772f7ef36db0
Referenz
8ca84e78-55d8-4c4b-b351-a1eb7bdd229c
Offizielle Quelle
Offizielle Quelle

CPV-Codes

Beschreibung

Ausgeschrieben wird eine Anlage zum reaktiven Ionenätzen mittels induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-RIE). Die Anlage soll ein Kernstück der waferprozessierenden Infrastruktur darstellen und wird im Reinraum der Universität Paderborn aufgestellt. Die Entwicklung von waferskaligen Bauelementen stellt große Anforderungen an die Wafergröße (bis zu 8 Zoll), die Strukturgröße und die Strukturhomogenitäten. Die verwendeten optische Bauelemente basieren auf Wellenleiterstrukturen, die extrem hohe Anforderungen an die Strukturhomogenität und Seitenrauheit stellen. Es sollen Rippenwellenleiter über eine Länge von mehreren Millimetern mit einer hohen Homogenität geätzt werden.

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Häufig gestellte Fragen

Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?
Die Angebotsfrist endet am 16 Januar 2025, 12:00. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.
Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
Die Vergabestelle ist Universität Paderborn (Deutschland).
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