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Direktvergabe Deutschland Lieferungen

Freihändige Vergabe ohne Teilnahmewettbewerb

Raith GmbH

Direktvergabe an Vergabekammer Niedersachsen beim Nds. Ministerium für… für 1.499.999 €.

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Beträge und Kennzahlen

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Lose

Beschreibung

Benötigt wird ein dediziertes Hochleistungs-Elektronenstrahllithografie-System mit passender Ausstattung, um die technologischen Anforderungen, welche aus der Vielzahl an derzeit laufenden und geplanten sowie zukünftigen Projekten resultieren, erfüllen zu können. Folgende Anforderungen ergeben sich an das Gerät: 1. System zur Strukturierung von Elektronenstrahl-empfindlichen Lackschichten. 2. Erzeugung einzelner ‚Features‘ mittels Elektronenstrahllithographie, die Linienbreiten und Abmessungen im Bereich kleiner 8 nm haben (State of the Art). 3. Die Beschleunigungsspannung muss einstellbar bis zu 50 kV und muss ohne Einschränkungen unmittelbar umschaltbar sein auf einen zweiten Arbeitspunkt z.B. 10 kV, um z.B. bestimmte Profile in den belichteten Strukturen zu erzeugen, z.B. Unterschnitte für Liftoff Prozesse. 4. Der Durchsatz der Anlage muss bei einer regelmäßigen Vergleichsstruktur z.B. einem Diffraktionsgitter mit Submikrometerperiode eine Schreibgeschwindigkeit von 0,5 cm²/h besitzen, um die benötigten Probengrößen in angemessener Zeit herstellen zu können. 5. Benötigt wird eine Flexibilität in der Wahl der Belichtungsmodi für jedes einzelne Designelement z.B. grob und fein oh…

Zuschläge

Amtliche Veröffentlichungen

MediumReferenzDatum
OEV bc297156538c4e7d831f1dae37c2988d 22 Mai 2024
TED 300123-2024 —

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