FKF 2024-15 Maskenbelichtungsgerät
Auftraggeber: Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V.
- Veröffentlicht
- 20 August 2024
- Erfüllungsort
- DE111
- Verfahren
- Verhandlungsverfahren
- Lose
- 1
- Bekanntmachungsnummer
- 8e91efef783143038a4a888cd4376f76
- Referenz
- 3d9040db-e87a-4786-bf3b-6e09d49473ef
- Offizielle Quelle
- Offizielle Quelle
CPV-Codes
- 38000000Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)
Beschreibung
Für die zentrale Wissenschaftliche Einrichtung Nanostrukturlabor am Max-Planck-Institut für Festkörperforschung soll für Optische Lithographie ein neues Maskenbelichtungsgerät ('Mask-Aligner') beschafft werden. Dieser muss die folgenden Eigenschaften aufzuweisen: UV-LEDs als Lichtquelle, wobei zur Belichtung der Wellenlängenbereich (i-, h- und g-Linie) wählbar und frei kombinierbar sein muss. Die Lichtintensität ist konstant zu halten. Diverse Maskengrößen sind verwendbar: 3", 4", 6". Die Belichtung von Substraten unterschiedlicher Formate muss möglich sein: von 4mm-auf-4mm Chip bis 6"-Wafer. Es ist das Ausrichten auf Markierungen auf der Substratober- als auch Substratunterseite möglich. Es stehen verschiedene Kontaktmodi zur Verfügung: 'Soft'-, 'Hard'-, 'Vacuum'- und 'Proximity'-Kontakt. Der Keilfehlerausgleich geschieht automatisch. Der Abstand zwischen Maske und Substrat ist ggf. einstellbar. Eine einfache 'Flood Exposure' muss möglich sein. Für dieses Basisgerät soll die Option der Erweiterung für 'Wafer Bonding' und 'Nano-imprint'-Lithographie bestehen.
Zuschlagskriterien
- Preis — Der Zuschlag wird nach § 127 GWB und § 58 Abs. 1 VgV auf das jeweils unter Berücksichtigung aller Umstände wirtschaftlichste Angebot erteilt. Maßgeblich für die Beurteilung der Wirtschaftlichkeit ist…
Amtliche Veröffentlichungen
- OEV · 8e91efef783143038a4a888cd4376f76 · 20 August 2024
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Häufig gestellte Fragen
- Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
- Die Vergabestelle ist Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. (Deutschland).
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