Elektronenstrahlverdampfer-System
Deutsches Zentrum für Luft und Raumfahrt e.V.
Zuschlag an Creavac GmbH.
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Beträge und Kennzahlen
Beschreibung
Für die Prozessierung von Halbleiterlaserdioden im Rahmen der Forschung und Entwicklung muss ein erprobtes System für das Elektronenstrahlverdampfen (ESV) beschafft werden. Hierbei muss das ESV-System in der Lage sein dünne Metallschichten für Materialabhebungsprozesse (Lift-Off) abzuscheiden. Das ESV-System muss in der Lage sein, entsprechenden Schichten im einer Auf-dampfrate im Bereich von Angström pro Sekunde abzuscheiden. Ebenso müssen die entspre-chenden Schichten sehr homogen mit einer hohen Reproduzierbarkeit abgeschieden werden kön-nen. Das ESV-System muss in der Lage sein, Reinigungs- und Anätzprozesse im Nanometer-Bereich durchführen zu können. Weitergehende Informationen sind der beigefügten Leistungsbeschreibung (Vertragsunterlagen) zu entnehmen.
Zuschlagskriterien
| Art | Kriterium | Gewichtung |
|---|---|---|
| Preis | Preis | — |
Zuschläge
| Los | Zuschlag an | Betrag | Eingegangene Angebote | Datum |
|---|---|---|---|---|
| LOT-0001 | Creavac GmbH | — | 1 | 25 November 2024 |
Amtliche Veröffentlichungen
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