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Deep Reactive Ion Etching (DRIE) Si fluorine chemistry etcher

Auftraggeber: Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e.V.

Veröffentlicht
11 Juni 2026
Verfahren
Offenes Verfahren
Lose
1
Bekanntmachungsnummer
2c8cf2955684414884df59e7273a6d31
Referenz
6630f51f-7185-484c-a04f-6ef513d8d8d9
Offizielle Quelle
Offizielle Quelle

CPV-Codes

Beschreibung

The equipment to be procured is a Deep Reactive Ion Etching (DRIE) Si fluorine chemistry etcher. This will provide new capabilities of deep trench (Bosch process) and through-via etching to the IBC cleanroom. The equipment is procured through the MagKI investment programme which will provide advanced substrate structuring capabilites to the cleanroom which will be used in the final production of magnetic nanodevices for next-gen European based Artifical Intelligence. It will also offer near vertical sidewall profile of etched via's in Si, SiC as well as 2D materials, like graphene and MoS2. Beside the fulfilment of the criteria described under 2. Performance quote of this Annex A, the scope of deliveries and services includes and are part of the offer: - delivery at the place of usage according to DPU Dresden (Incoterms 2020) Place of usage: - the machine must be capable of operating in a cleanroom environment (ISO Class 6) with the sample loaded in an ISO class 4 / 5 environment. - the footprint, technical drawings, electrical drawings must be supplied in the documentation - user documentation in English and German - delivery, installation and SAT must be possible u…

Zuschlagskriterien

Zuschläge

Zuschlag anBetragDatum
SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH

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Häufig gestellte Fragen

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Die Vergabestelle ist Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e.V. (Deutschland).
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