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Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Auftraggeber: Technische Universität München

Veröffentlicht
27 August 2026
Erfüllungsort
Garching, DE21H
Verfahren
Offenes Verfahren
Lose
1
Bekanntmachungsnummer
e583da729265401585e2beb677080854
Referenz
196028f0-89e5-49a4-b587-9a9c9c914a98
Offizielle Quelle
Offizielle Quelle

CPV-Codes

Beschreibung

Eine Atomic-Layer-Deposition (ALD)-Anlage zur Durchführung von Forschungsarbeiten

Zuschlagskriterien

Zuschläge

Zuschlag anBetragDatum
Veeco GmbH

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