Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
Auftraggeber: EPFL-Scientific Equipment
- Veröffentlicht
- 25 September 2026
- Angebotsfrist
- 4 November 2026, 23:59
- Erfüllungsort
- Lausanne, CH011
- Verfahren
- Offenes Verfahren
- Bekanntmachungsnummer
- 44730-01
- Referenz
- 2ff1d4c4-0724-44b8-bcaa-4e1d247e13f6
- Offizielle Quelle
- Offizielle Quelle
CPV-Codes
- 38000000Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Beschreibung
L’EPFL, en collaboration avec l’Université de Genève (UNIGE), prévoit d’acquérir un nouveau système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité. L’équipement sera accueilli par le Centre de MicroNanotechnologie de l’EPFL (CMi). Le CMi est une installation centralisée dédiée à la micro/nano fabrication, centrale pour l’ensemble des facultés de l’EPFL, ouverte aux universités externes ainsi qu’aux industriels locaux (>600 utilisateurs actifs par an). Le nouvel équipement sera dédié à la recherche de pointe dans le domaine des détecteurs de photons uniques avec l’objectif de combler l’écart entre la fabrication à l’échelle laboratoire et celle à l’échelle industrielle en permettant la déposition sur plaques de diamètre 200 mm. Une grande importance sera accordée non seulement à la qualité des dépositions et les propriétés supraconductrices des films minces, mais également à la facilité d’utilisation des équipements, à leur simplicité/rapidité d’apprentissage pour les nouveaux utilisateurs et à leur flexible, mais néanmoins robuste, capacité de contrôle de procédés de dépositions dans un environnement type R&D. Un grand intérêt…
Amtliche Veröffentlichungen
- SIMAP · 44730-01 · 25 September 2026
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Häufig gestellte Fragen
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