Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
Auftraggeber: ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Veröffentlicht
- 1 Oktober 2026
- Angebotsfrist
- 10 November 2026, 23:58
- Erfüllungsort
- Rüschlikon, CH040
- Verfahren
- Offenes Verfahren
- Bekanntmachungsnummer
- 45007-01
- Referenz
- eca8820b-70c3-4570-bd2d-4f882547fa00
- Offizielle Quelle
- Offizielle Quelle
CPV-Codes
- 38000000Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Beschreibung
The B & R Nanotechnology Center (BRNC) at ETH Zurich invites tenders for the purchase of one (1) ultra-high resolution electron-beam lithography (EBL) system. The system will be used for a variety of research activities of internal and external users, ranging from the generation of high-precision structures at the nanometer level to the rapid exposure of complex structures over large areas. The scope includes delivery, installation, training and acceptance of the system.
Amtliche Veröffentlichungen
- SIMAP · 45007-01 · 1 Oktober 2026
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Häufig gestellte Fragen
- Bis wann kann ein Angebot für diese Ausschreibung eingereicht werden?
- Die Angebotsfrist endet am 10 November 2026, 23:58. Prüfen Sie die offizielle Quelle, da Termine geändert werden können.
- Wer ist der Auftraggeber dieser Ausschreibung?
- Die Vergabestelle ist ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services (Schweiz).
- Wie kann ich mich an öffentlichen Ausschreibungen in der Schweiz beteiligen?
- Angebote werden über das offizielle Vergabeportal in der Schweiz eingereicht. El Vínculo hilft Ihnen, Ausschreibungen zu finden und ihre Unterlagen zu analysieren; die Angebotsabgabe erfolgt immer bei der offiziellen Quelle.
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