Fourniture et installation d’un équipement automatique pour plaques 200mm de gravure par faisceau d'ions
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
Awarded to PUCES TECHNOLOGIES SEMICONDUCTEURS.
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Amounts and figures
Description
Le CEA Leti souhaite acquérir un équipement automatique pour plaques 200mm de gravure par faisceau d'ions avec une solution de dépôt de silicium nitruré (en option) La chambre de gravure par faisceau d'ions doit pouvoir effectuer une gravure par faisceau d'ions réactif (RIBE) et une gravure par faisceau d'ions assistée chimiquement (CAIBE) avec des gaz d'argon, d'oxygène, de fluor et de chlore. L'équipement doit traiter différents types de plaques de 200 mm (collées, silicium sur verre ou silicium sur silicium) et d'épaisseurs variables (de 500 à 1500 um).
Award criteria
| Type | Criterion | Weight |
|---|---|---|
| Price | Le prix n'est pas le seul critère d'attribution et tous les critères ne sont énoncés que dans les documents de passation de marchés Critères : Prix de l'équipement : 50% Performances techniques de… | — |
Awards
| Lot | Awarded to | Amount | Bids received | Date |
|---|---|---|---|---|
| LOT-0001 | PUCES TECHNOLOGIES SEMICONDUCTEURS | €1 | 2 | 9 December 2024 |
Official publications
| Medium | Reference | Date |
|---|---|---|
| TED | 108729-2025 | 18 February 2025 |
| OJS | 34/2025 | 18 February 2025 |
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