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Adquisició d'una font de radiofreqüència (RF) (13,56 MHz) d'alta potència (2kW) per a poder aplicar en el reactor de plasma acoblat inductivament (ICP) per la deposició en fase vapor (CVD) de mostres de nanoparets de grafè verticals (VGNWs) sobre substrats d'acer inoxidable SS310. El reactor està en la fase final de muntatge i aviat cal iniciar les proves del seu funcionament. de pel Departament de Física Aplicada de la Facultat de Física de la Universitat de Barcelona.
Finançament/Projecte:
Electrodos híbridos para almacenamiento de energía avanzado: hacia un futuro sostenible, número referència PID2020-116612RB-C32 (MCINN/AEI). IP Enric Bertran Serra.
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