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Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

Stazione appaltante: Fondazione Istituto Italiano di Tecnologia

Pubblicato
18 marzo 2026
Termine di presentazione delle offerte
21 aprile 2026, 00:00
Lotti
1
Documenti
1
Numero dell'avviso
74d32e47376d4f80b432de4377ddcc5b
Riferimento
a6b83e96-3114-496c-8d19-008e9ac8290e
Fonte ufficiale
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Descrizione

Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

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Domande frequenti

Qual è il termine per presentare un'offerta per questa gara?
Il termine di presentazione delle offerte è 21 aprile 2026, 00:00. Verifica la fonte ufficiale, poiché le date possono subire modifiche.
Chi è la stazione appaltante di questa gara?
La stazione appaltante è Fondazione Istituto Italiano di Tecnologia (Italia).
Come posso partecipare alle gare d'appalto in Italia?
Le offerte si presentano tramite il portale ufficiale degli appalti di Italia. El Vínculo ti aiuta a trovare le gare e ad analizzarne i documenti; la presentazione avviene sempre presso la fonte ufficiale.
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